| 发明名称 |
Method of depositing thin film of metal oxide by magnetron sputtering apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU766847(B2) |
申请公布日期 |
2003.10.23 |
| 申请号 |
AU20000012504 |
申请日期 |
2000.01.20 |
| 申请人 |
KANEKA CORPORATION |
发明人 |
TAKAYUKI SUZUKI;HITOSHI NISHIO |
| 分类号 |
H01L21/203;C23C14/08;C23C14/35;H01J37/34;(IPC1-7):C23C14/35;C23C14/16 |
主分类号 |
H01L21/203 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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