发明名称 增加透明导电层电导率的方法
摘要 一种增加透明导电层电导率的方法,其中对透明层成型的光阻材料层具有带锥度的边缘并被部分腐蚀。部分腐蚀使被选择性地覆盖的下面的透明导电体的边缘区域暴露。本方法有一个对透明层单独成型的阶段,但使用对有锥度的光阻层的部分腐蚀,以便暴露透明层的小边缘区域,用导电层(可以是不透明的)覆盖。
申请公布号 CN1451102A 申请公布日期 2003.10.22
申请号 CN01804306.2 申请日期 2001.11.29
申请人 皇家菲利浦电子有限公司 发明人 I·D·弗伦奇;P·J·范德扎阿格
分类号 G02F1/1362;G02F1/1345;H01B1/08 主分类号 G02F1/1362
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 栾本生;梁永
主权项 1.一种增加透明导电层电导率的方法,包括:将光阻材料层沉积和成型为与透明导电层所希望的样式对应的形状;和利用光阻材料层将透明导电层成型,其中光阻材料层的边缘区域有锥度,该方法进一步包括以下步骤:将光阻材料层部分腐蚀,使得至少部分的边缘区域被完全除去,从而露出下面的透明导电层;利用金属层将透明导电层的暴露部分有选择地覆盖。
地址 荷兰艾恩德霍芬
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