| 发明名称 | 处理装置运转的监视方法 | ||
| 摘要 | 本发明的运转监视方法，对预先成为基准的多个晶片(W)用检测器分别检测多个运转数据，用这些运转数据通过控制装置(10)进行主因素分析。而且，用由运转数据产生的主因素分析结果，评价等离子体处理装置(1)的运转状态。 | ||
| 申请公布号 | CN1451174A | 申请公布日期 | 2003.10.22 |
| 申请号 | CN01812248.5 | 申请日期 | 2001.07.03 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 坂野真治;仙洞田刚士 |
| 分类号 | H01L21/3065;H01L21/205;C23C16/52 | 主分类号 | H01L21/3065 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳;沙捷 |
| 主权项 | 1.一种运转监视方法，它是将用附设于处理装置上的多个检测器检测出的各个被处理体上的多个检测值作为运转数据加以利用，监视该处理装置运转的方法，其特征为，用所述运转数据进行多变量分析，评价处理装置的运转状态。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||