| 发明名称 | 等离子体消毒装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种低温等离子体消毒装置，其包括：用于容纳要消毒的物品(9)的反应腔(1)，所述的物品被包在包装材料(10)中；分别设置在反应腔(1)内要消毒物品(9)上下的阳极(2)和阴极(3)；经质量流量控制器(4)连接到所述阳极(2)的注射加热器(5)；经过阻抗匹配电路(6)和阻抗匹配控制器(7)连接所述的阴极(3)的等离子体能量源(8)，用来产生高频能量；设在所述反应腔(1)下部的真空泵(11)，其中，在用等离子体消毒之前，通过所述的注射加热器液态的过氧化氢溶液(12)转化为气态的过氧化氢，之后，通过所述的质量流量控制器(4)以所需的压力对气态的过氧化氢进行调节和注射，从而完成预处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1450917A | 申请公布日期 | 2003.10.22 |
| 申请号 | CN00819366.5 | 申请日期 | 2000.05.26 |
| 申请人 | 株式会社和门麦迪泰克 | 发明人 | 高重硕 |
| 分类号 | A61L2/14;A61L2/18;A61L2/24 | 主分类号 | A61L2/14 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王维宁 |
| 主权项 | 1、一种等离子体消毒装置，包括：反应腔(1)，用于容纳要消毒的物品(9)，所述的物品被包在包装材料(10)中；设置在反应腔(1)内要消毒物品(9)之上的阳极(2)；设置在反应腔(1)内要消毒物品(9)之下的阴极(3)；经质量流量控制器(4)连接到所述阳极(2)的注射加热器(5)；等离子体能量源(8)，其经过阻抗匹配电路(6)和阻抗匹配控制器(7)连接到所述的阴极(3)，用来产生高频能量；设在所述反应腔(1)下部的真空泵(11)，其中，在用等离子体消毒之前，通过所述的注射加热器液态的过氧化氢溶液(12)转化为气态的过氧化氢，之后，通过所述的质量流量控制器(4)将气态的过氧化氢调节到需要的压力并在该压力下进行注射，从而完成预处理。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||