发明名称 |
掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的形成方法 |
摘要 |
本发明的课题是,提供用于制造干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的掩模、使用该掩模而形成的带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电光装置和具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电子装置。作成带光反射膜的基板,以比点区域的数目少的点部分为一个单位形成光透过部或光不透过部,并且在该单位内不规则地排列,同时使用包含多个该单位的掩模,使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等,同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状,并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。 |
申请公布号 |
CN1450391A |
申请公布日期 |
2003.10.22 |
申请号 |
CN03110346.4 |
申请日期 |
2003.04.09 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
大竹俊裕;松尾睦;露木正 |
分类号 |
G02F1/1335;G02B5/08;G03F7/00 |
主分类号 |
G02F1/1335 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘宗杰;王忠忠 |
主权项 |
1.一种用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模,其特征在于:具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过部,上述光透过部或光不透过部具有指定形状,该指定形状之间一部分相互重叠。 |
地址 |
日本东京都 |