| 发明名称 | 掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹的发生少的光反射膜的掩模、使用该掩模的光反射膜、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的光反射膜的光学显示装置和具有干涉条纹的发生少的光反射膜的电子装置。使用以RGB点100～2,000个或整个画面为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的用于制造带光反射膜的基板的掩模，作成以RGB点100～2,000个或整个画面为一个单位使该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列的带光反射膜的基板。 | ||
| 申请公布号 | CN1450392A | 申请公布日期 | 2003.10.22 |
| 申请号 | CN03110354.5 | 申请日期 | 2003.04.09 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 大竹俊裕;松尾睦;露木正 |
| 分类号 | G02F1/1335;G02B5/08;G03F7/00 | 主分类号 | G02F1/1335 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘宗杰;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种用于制造带光反射膜的基板的掩模，其特征在于：以100～2,000个点或整个画面为1个单位使光透过部或光不透过部沿平面方向随机地排列。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||