发明名称 聚酯薄膜及其制备方法
摘要 作为例如数字记录方式的盒式磁带等磁性记录介质的基膜特别有用的聚酯薄膜,及其制造方法。通过在未拉伸阶段或拉伸完成前阶段的薄膜表面照射紫外光,使在该表面中形成细微突起,制造聚酯薄膜。薄膜表面的细微突起是,该表面的十点平均粗糙度Rz和中心线平均粗糙度Ra之比(Rz/Ra)小于20,表层部分的羧基浓度和内部的羧基浓度之比通过细微突起的个数未特定。
申请公布号 CN1450952A 申请公布日期 2003.10.22
申请号 CN00819298.7 申请日期 2000.03.07
申请人 东丽株式会社 发明人 恒川哲也;中岛彰二;中森由佳里;琴浦正晃
分类号 B29C59/16;B32B27/36;G11B5/84;G11B5/73 主分类号 B29C59/16
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 段承恩;陈海红
主权项 1、一种聚酯薄膜的制造方法,其特征在于,对薄膜的至少一侧照射紫外光,使该表面中形成细微突起。
地址 日本东京