| 主权项 |
1.一种基板清洗装置,包括:索引器机构,用以接收储存多个基板的盒;清洗机构,用以清洗基板;微粒检测机构,用以检测附着于基板表面的微粒分布;传送机构,用以在该索引器机构、该清洗机构及该微粒检测机构间传送基板;及控制机构,当基板以该清洗机构清洗,并以该微粒检测机构进行检测后,用以依据附着于基板上的微粒分布,改变基板清洗条件;其中藉由改变该清洗机构的清洗条件,重复地清洗基板,并以该微粒检测机构对该清洗机构所清洗的基板进行微粒分布的检测,直到该检测结果显示基板已洁净为止。2.如申请专利范围第1项之基板清洗装置,其中该清洗机构包括以清洗刷清洗基板之清洗机构、以高压清洗溶液清洗基板之清洗机构、以洁净的溶液配合超音波清洗基板之清洗机构、以及以气液雾喷洗基板之清洗机构中的至少一清洗机构。3.一种基板清洗装置,包括:索引器机构,用以接收储存多个基板的盒;清洗机构,包括利用清洗刷清洗基板的清洗器;微粒检测机构,用以检测附着于基板表面的微粒分布;传送机构,用以在该索引器机构、该清洗机构及该微粒检测机构间传送基板;及控制机构,当基板以该清洗机构清洗,并以该微粒检测机构进行检测后,用以依据附着于基板上的微粒分布,改变该清洗刷的转速或该清洗刷施加至基板的压力中之至少一者。4.如申请专利范围第3项之基板清洗装置,其中藉由改变该清洗刷的转速或该清洗刷施加至基板的压力中之至少一者来重复地清洗基板,并以该微粒检测机构对该清洗机构所清洗的基板进行微粒分布的检测,直到该检测结果显示基板已洁净为止。5.一种基板清洗装置,包括:索引器机构,用以接收储存多个基板的盒;清洗机构,包括从清洗溶液供应喷嘴将高压的清洗溶液施加至基板以进行清洗的清洗器;微粒检测机构,用以检测附着于基板表面的微粒分布;传送机构,用以在该索引器机构、该清洗机构及该微粒检测机构间传送基板;及控制机构,当基板以该清洗机构清洗,并以该微粒检测机构进行检测后,用以依据附着于基板上的微粒分布,改变该清洗溶液供应喷嘴所供应之清洗溶液的压力或排放率中之至少一者。6.如申请专利范围第5项之基板清洗装置,其中藉由改变该清洗溶液供应喷嘴所供应之清洗溶液的压力或排放率中之至少一者来重复地清洗基板,并以该微粒检测机构对该清洗机构所清洗的基板进行微粒分布的检测,直到该检测结果显示基板已洁净为止。7.一种基板清洗装置,包括:索引器机构,用以接收储存多个基板的盒;清洗机构,包括从清洗溶液供应喷嘴将具有超音波震动的清洗溶液施加至基板以进行清洗的清洗器;微粒检测机构,用以检测附着于基板表面的微粒分布;传送机构,用以在该索引器机构,该清洗机构及该微粒检测机构间传送基板;及控制机构,当基板以该清洗机构清洗,并以该微粒检测机构进行检测后,用以依据附着于基板上的微粒分布,改变该清洗溶液供应喷嘴所供应之清洗溶液的超音波频率或超音波输出中之至少一者。8.如申请专利范围第7项之基板清洗装置,其中藉由改变该清洗溶液供应喷嘴所供应之清洗溶液的超音波频率或超音波输出中之至少一者来重复地清洗基板,并以该微粒检测机构对该清洗机构所清洗的基板进行微粒分布的检测,直到该检测结果显示基板已洁净为止。9.一种基板清洗装置,包括:索引器机构,用以接收储存多个基板的盒;清洗机构,包括从清洗溶液供应喷嘴将气液混合喷雾的清洗溶液施加至基板以进行清洗的清洗器;微粒检测机构,用以检测附着于基板表面的微粒分布;传送机构,用以在该索引器机构,该清洗机构及该微粒检测机构间传送基板;及控制机构,当基板以该清洗机构清洗,并以该微粒检测机构进行检测后,用以依据附着于基板上的微粒分布,改变供应至该清洗溶液供应喷嘴的气体流率或供应至该清洗溶液供应喷嘴的液体流率中之至少一者。10.如申请专利范围第9项之基板清洗装置,其中藉由改变供应至该清洗溶液供应喷嘴的气体流率或供应至该清洗溶液供应喷嘴的液体流率中之至少一者来重复地清洗基板,并以该微粒检测机构对该清洗机构所清洗的基板进行微粒分布的检测,直到该检测结果显示基板已洁净为止。11.一种基板清洗方法,其使用基板清洗装置来处理基板,此基板装置包括用以接收储存多个基板之盒的索引器,用以清洗基板的清洗单元,用以检测附着于基板表面之微粒分布的微粒检测单元,及用以在该索引器,该清洗单元及该微粒检测单元间传送基板的传送单元,该方法包括:第一清洗步骤,用以清洗从该基板盒传送至该清洗单元的基板;微粒检测步骤,用以检测经过该清洗单元的清洗并传送至该微粒检测单元之基板的微粒分布;判断步骤,用以依据该微粒检测步骤所测得的微粒分布,判断基板是否洁净;清洗条件改变步骤,当该判断步骤判断出基板尚未洁净时,依据该微粒检测单元所测得的微粒分布,来改变该清洗单元的基板清洗条件;及第二清洗步骤,在该第一清洗步骤后,将判断为尚未洁净的基板传送至该清洗单元,并以该清洗条件改变步骤内所改换的清洗条件来清洗基板。图式简单说明:图1显示依据本发明之基板清洗装置。图2为基板清洗装置的平面概要图。图3为运送单元之主要部位的透视图。图4为运送单元的操作垂直剖面图。图5显示运送单元的另一操作垂直剖面图。图6显示基板传送臂的透视图。图7显示基板传送臂之内部结构的侧剖面视图。图8为基板传送臂的操作概念图。图9为另一种传送臂之主要部位的透视图。图10反向单元之主要部位的透视图。图11显示背表面清洗单元的垂直轮廓剖面图。图12显示配置于支持臂中之压力调整机构及毛刷旋转机构的剖面图。图13为背表面清洗单元之主电子构造的方块图,其包括有压力调整机构。图14显示改良之背表面清洗单元的垂直剖面图。图15显示另一背表面清洗单元的垂直剖面图。图16显示另一背表面清洗单元的垂直剖面图。图17显示清洗液供应喷嘴的内部结构。图18清洗基板的操作流程图。图19显示另一实施例之清洗基板的操作流程图。 |
