| 主权项 |
1.一种藉由使用辐射可硬化组成物之立体石印法制备三度空间物件的方法,该组成物包括一种至少一种辐射可聚合的化合物,其包含至少一1,2-环氧化物,乙烯醚,内酯,缩醛,环硫化物,环醚,或矽氧烷基;至少一种具有pH大于2.5之填充剂材料和至少一种用于聚合作用的光引发剂的混合物,其中加入有效量之至少一种选自包括疏水性二氧化矽,亲水性二氧化矽,非晶形二氧化矽,制二氧化矽,凝胶二氧化矽,沈淀二氧化矽,合成二氧化矽,表面处理之二氧化矽,和其混合物之无机抗沈积剂以提供填充组成物所要的沈积安定性;及使有机黏度安定剂材料与组成物进行接触。2.根据申请专利范围第1项的方法,其中辐射可聚合化合物为一种阳离子可聚合化合物。3.根据申请专利范围第1项的方法,其中辐射可聚合化合物为一种自由基可聚合化合物。4.根据申请专利范围第1项的方法,其中填充剂之表面至少部份已被表面处理以化学或物理结合不反应或反应的化合物─偶合剂或涂层材料至填充剂材料。5.一种制造辐射可硬化组成物的方法,包括在反应容器中组合一种至少一种辐射可聚合的化合物,其包含至少一1,2-环氧化物,乙烯醚,内酯,缩醛,环硫化物,环醚,或矽氧烷基。至少一种具有pH値大于2.5之填充剂材料和至少一种用于聚合作用的光引发剂的混合物,其中加入有效量之至少一种选自包括疏水性二氧化矽,亲水性二氧化矽,非晶形二氧化矽,制二氧化矽,凝胶二氧化矽,沈淀二氧化矽,合成二氧化矽,表面处理之二氧化矽,和其混合物之无机抗沈积剂以提供填充组成物的沈积安定性,和一种有机黏度安定剂材料的混合物。 |
