| 主权项 |
1.一种反射型绕射光栅,其系于具有刻槽周期为入射光波长0.1至10倍之绕射光栅中,该反射型光栅包含,一种积层物,其系由具有反射比等于或大于30%之金属膜作为第一层以及透明介电膜作为第二层所组成,该第一与第二层循序积层于该绕射光栅之表面侧上。2.如申请专利范围第1项之反射型绕射光栅,其中,该金属膜,就入射光波长而言,具有折射率等于或小于2.0及消光系数等于或大于6.0;以及该介电膜,就入射光波长而言,具有折射率为1.30至1.65之范围(皆含),且具有光学薄膜厚度为入射光波长之0.20至0.80倍(皆含)。3.如申请专利范围第2项之反射型绕射光栅,其中,该介电膜,就入射光波长而言,具有折射率为1.30至1.46之范围(皆含),且具有光学薄膜厚度为入射光波长之0.20至0.38倍(皆含)。4.如申请专利范围第1至3项中任一项之反射型绕射光栅,其中,该金属膜系经由选自铝或含铝合金作为主要成分、银或含银合金作为主要成分、铜或含铜合金作为主要成分及金或含金合金作为主要成分之任一者组成。5.一种绕射光栅,包含:一片基板,其界定微细粗度结构于一表面上,该微细粗度结构系由大量周期性排列之微细刻槽所组成;一层透明介电层,其系提供于基板作为曝光表面;至少一层金属层,其设置于该位在该介电层及该微细粗度结构间之基板;以及该金属层之反射比等于或大于30%。6.如申请专利范围第5项之绕射光栅,其中,该金属层之折射率,就入射光波长而言等于或小于2.0。7.如申请专利范围第5项之绕射光栅,其中,该金属层之消光系数,就入射光波长而言等于或大于6.0。8.如申请专利范围第5项之绕射光栅,其中,该介电层之折射率,就入射光波长而言系于1.30至1.65之范围(皆含)。9.如申请专利范围第5项之绕射光栅,其中,该介电层之光学薄膜厚度为入射光波长之0.20至0.80倍(皆含)。图式简单说明:图1为剖面图,显示根据本发明之反射型绕射光栅结构。图2为视图,显示评估绕射效率之偏振相依性之光学系统。 |
