| 发明名称 |
METHOD FOR SUPPRESSING CHARGING OF COMPONENT IN VACUUM PROCESSING CHAMBER OF PLASMA PROCESSING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003227236(A1) |
申请公布日期 |
2003.10.20 |
| 申请号 |
AU20030227236 |
申请日期 |
2003.03.27 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
TAKEHIRO UEDA;KATSUYUKI KOIZUMI;KOUKI SUZUKI |
| 分类号 |
H05H1/46;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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