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发明名称 Plasma etching method
摘要
申请公布号 AU2003236309(A8) 申请公布日期 2003.10.20
申请号 AU20030236309 申请日期 2003.04.07
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 MASANOBU HONDA;KAZUYA NAGASEKI;HISATAKA HAYASHI
分类号 C23F1/00;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 C23F1/00
代理机构 代理人
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