发明名称 位置量测方法、曝光方法以及元件制造方法
摘要 提供一种即使在透过观察视野亦只能观察到标记之一部分、或标记偏离观察视野内时,亦能正确地量测该标记之位置资讯的位置测量方法。此时,观察系统,具有可观察标记M之一部分却无法观察标记M之整体的观察视野PFx,PFy。透过观察系统之观察视野PFx,PFy,以至少包含一个能观察部分标记之区域的方式,来拍摄基板上之复数个区域S1,S2,S3,…,根据该拍摄结果,特定出所拍摄之该标记M的一部分,究竟系标记M的哪一部分,并根据拍摄标记M之一部分的结果及特定出的结果,求出标记M之位置资讯。
申请公布号 TW200305193 申请公布日期 2003.10.16
申请号 TW092103174 申请日期 2003.02.14
申请人 尼康股份有限公司 发明人 国米佑司
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本