发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 本发明系藉提供一通过封装一组件之第一室10内部之第一清除气体流11,12及通过该室10外部表面之第二清除气体流16,17而提供一种防止污染物被导入该组件之装置。
申请公布号 TW200305192 申请公布日期 2003.10.16
申请号 TW092102244 申请日期 2003.01.30
申请人 ASML公司 发明人 杰罗恩 乔哈那斯 索菲亚 马利亚 马顿斯;JOHANNES SOPHIA MARIA MERTENS
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰