短波长成像用之负型光阻剂

摘要

本发明系提供一种适合用于短波长成像之负型作用光阻剂组成物，特别是适合用于波长次200奈米，例如193奈米。本发明之光阻剂系透过交联或其他溶解度之转换机制，在涂层的曝光区域以及未曝光区域间形成对比。本发明较佳之光阻剂系包含含有可增进对硷性水溶液的溶解度（aqueousbaseso1ubi1ity）之重复单元的树脂成分。