降低图案化光阻层之表面缺陷的酸性水溶液

摘要

揭示一种降低基材表面上图案化光阻层之表面缺陷的方法，其藉由包含这些阶段之步骤而获得：（a）在基材表面上形成正性化学放大光阻组成物之光阻层，（b）使光阻层依图案暴露于光化射线下，（c）对依图案曝光之光阻层施以后段曝光烘烤处理及（d）显影处理。该改良可以藉着在后曝光烘烤处理之后使光阻层与酸硷度为3．5或更低之酸性水溶液接触1至90秒而完成。该包含于酸性水溶液之酸宜为芳香族磺酸或，更佳者，二苯基醚磺酸例如十二烷基（二苯基醚）二磺酸。