| 摘要 |
<p>L'invention concerne des procédés de positionnement et d'orientation de nanostructures, et notamment de nanofils, sur des surfaces en vue d'une utilisation ou d'une intégration ultérieure. Ces procédés utilisent des opérations fondées sur le masque de manière isolée ou en combinaison avec un alignement fondé sur le flux des nanostructures en vue d'obtenir des nanostructures orientées et positionnées sur ces surfaces. L'invention concerne également des populations de nanostructures positionnées et/ou orientées, des dispositifs comprenant des populations de nanostructures positionnées et/ou orientées, des systèmes de positionnement et/ou d'orientation de nanostructures, ainsi que des dispositifs, systèmes et procédés associés.</p> |
