发明名称 |
Halbleiterspeicherzelle und Halbleiterspeichereinrichtung |
摘要 |
Es wird eine Halbleiterspeicherzelle (1) mit einer Feldeffekttransistoreinrichtung (T) und einem ferroelektrischen Speicherkondensator vorgeschlagen. Die Feldeffekttransistoreinrichtung weist einen Kanalbereich (K) mit oder aus einem organischen Halbleitermaterial auf. Neben einer ersten Gateelektrode (G1) der Gateelektrodenanordnung der Feldeffekttransistoreinrichtung (T) ist eine zusätzliche Auswahlgateelektrode (A) vorgesehen, durch welche die Feldeffekttransistoreinrichtung (T) ohne Beeinflussung des Speicherdielektrikums (D) und unabhängig von der ersten Gateelektrode (G1) abschaltbar ist.
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申请公布号 |
DE10212962(A1) |
申请公布日期 |
2003.10.16 |
申请号 |
DE20021012962 |
申请日期 |
2002.03.22 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHMID, GUENTER;HALIK, MARCUS;KLAUK, HAGEN;DEHM, CHRISTINE;HANEDER, THOMAS;MIKOLAJICK, THOMAS |
分类号 |
G11C13/02;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8246;(IPC1-7):H01L51/20;H01L51/30;G11C11/21 |
主分类号 |
G11C13/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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