发明名称 DERIVADOS DE OXIMA Y SU USO COMO ACIDOS LATENTES
摘要 Los compuestos de la fórmula I, II y III, en donde R{sub,1} por ejemplo es hidrógeno, alquilo C{sub,1}-C{sub,12}, cicloalquilo C{sub,3}-C{sub,30}, alquenilo C{sub,2}-C{sub,12}, cicloalquenilo C{sub,4}-C{sub,8}, fenilo, el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido, naftilo, antracilo o fenantrilo, no sustituido o sustituido, radical heteroarilo el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido; en donde todos los radicales R{sub,1} a excepción del hidrógeno, pueden ser sustituidos adicionalmente por un grupo que presente un enlace - O-C- ó un enlace -O-Si- el cual se escinde bajo la acción de un ácido; R''{sub,1} es por ejemplo fenileno, naftileno, difenileno u oxidifenileno, en donde estos radicales se encuentran no sustituidos o sustituidos; R{sub,2} es halógeno o haloalquilo C{sub,1}-C{sub,10}; R{sub,3} es por ejemplo alquilsulfonilo C{sub,1}-C{sub,18}, fenilsulfonilo, naftilsulfonilo, antracilsulfonilo o fenantrilsulfonilo, en donde los grupos se encuentran no sustituidos o sustituidos, ó R{sub,3} es por ejemplo haloalcanoílo C{sub,2}-C{sub,6}, halobenzoílo, R''{sub,3} es por ejemplo fenilendisulfonilo, naftilendisulfonilo, difenilendisulfonilo u oxidifenilendisulfonilo, en donde estos radicales se encuentran no sustituidos o sustituidos, X es halógeno; son especialmente adecuados como donadores de ácido fotosensibles en formulaciones resistentes amplificadas de forma química.
申请公布号 ES2168953(B1) 申请公布日期 2003.10.16
申请号 ES20000000798 申请日期 2000.03.30
申请人 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. 发明人 ASAKURA TOSHIKAGE;YAMATO HITOSHI;OHWA MASAKI;BIRBAUM JAN-LUC;DIETLIKER KURT;TANABE JUNICHI
分类号 C07C251/62;C07C309/00;C07C309/65;C07C309/66;C07C309/73;C07C309/74;C07C309/75;C07C317/32;C07C323/47;C07C323/64;C07C381/00;C07D319/18;C07D333/22;C08J3/24;C08K5/33;C08L101/02;C08L101/12;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/38 主分类号 C07C251/62
代理机构 代理人
主权项
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