镀膜形成方法和镀膜形成装置

摘要

本发明提供了一种镀膜形成方法和镀膜形成装置，这种方法和装置能够在膜形成表面不引起刻痕，提高成品率，能保持稳定放电以连续形成质地均匀、厚度一致的镀膜，镀膜通过沿长度方向连续运送带状基质形成，这样它构成了放电区的一部分，在基质运送过程中，由滚筒将构成放电区一部分的基质的横断面形状改变为弯曲形状。

主权项

1.一种镀膜形成方法，包括在带状基质长度方向上连续运送基质，以形成放电区的一部分，通过使用放电在基质上连续形成镀膜，其中在运送过程中，在与运送方向相垂直的方向上，将形成放电区一部分的基质的横断面形状改变为弯曲形状。