发明名称 | 膜基板处理装置、膜基板处理方法和膜基板搬出方法 | ||
摘要 | 提供一种将膜基板稳妥地放置到静电吸附式操作台上的膜基板处理装置。在该膜基板处理装置中,其将膜基板放置到静电吸附式操作台上的第1吸附部上设有吸附垫和将膜基板的端部区域朝操作台挤压的挤压部件。由此,可稳稳地将膜基板吸附于操作台上,在减压气氛下稳妥地对膜基板进行处理。 | ||
申请公布号 | CN1449234A | 申请公布日期 | 2003.10.15 |
申请号 | CN03107731.5 | 申请日期 | 2003.03.31 |
申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 笹冈达雄;铃木直树;米泽隆弘;堀江聪 |
分类号 | H05K3/26 | 主分类号 | H05K3/26 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 陈剑华 |
主权项 | 1.一种膜基板处理装置,它具有:用静电力将膜基板的与被处理面相反侧的背面进行保持的操作台,内部配置有上述操作台的操作室,在上述操作室被减压的状态下对上述用操作台加以保持的膜基板的被处理面进行规定处理的处理部,从被处理面侧保持膜基板、进行搬运、边从上述被处理面侧进行挤压边将膜基板放置至上述操作台上的搬运机构。 | ||
地址 | 日本国大阪府门真市 |