光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置

摘要

本发明涉及光刻设备，设备清洁方法，设备制造方法和由该方法制造的设备。其中在一低压环境中，一个电压被施加在靠近表面的工具尖端和所述表面之间。所述表面上的污染物被吸引并附着在工具上。一激光器可被用来就地清洁光刻投影设备中的元件。

主权项

1.一种光刻投影设备，包括：射线系统，用于提供一射线投影光束；用来支持图形化装置的支持结构，该图形化装置用来根据所需的图形将投影光束图形化；用来支持基底的基底台；和投影系统，用来将已图形化的光束投射到基底的目标部分上，其特征在于：包括清洁装置，其用于就地清洁光刻设备的元件，所述清洁装置包括：污染物分离装置，其利用电磁场使污染物从要被清洁的元件表面分离；和将已分离的污染物从所述装置除去的污染物去除装置。