| 发明名称 | 大面积光罩以及具有此大面积光罩的曝光系统 | ||
| 摘要 | 本发明所提供的是一种大面积光罩以及具有此大面积光罩的曝光系统。此光罩包括了一包含有光穿透区域与光线阻隔区域的透明基材，以及多个配置于透明基材上，用以支撑透明基材的条状物。当将大面积光罩设置于曝光系统中时，条状物能够支撑住光罩，因此可以避免光罩的水平高度向下偏移。 | ||
| 申请公布号 | CN1448785A | 申请公布日期 | 2003.10.15 |
| 申请号 | CN03121563.7 | 申请日期 | 2003.03.31 |
| 申请人 | 显像制造服务株式会社 | 发明人 | 朴庸硕;赵汉范 |
| 分类号 | G03F1/08;G03F7/20;G02F1/133;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/08 |
| 代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1、一种光罩，其特征在于：包括：一透明基材，该透明基材包括一光穿透区域以及一光线阻隔区域；以及复数个条状物，配置于该透明基材上，用以支撑该透明基材。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市 | ||