| 发明名称 | 蒸镀方法及显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种蒸镀方法及显示装置的制造方法，其目的为在蒸镀工序中，控制因掩膜所造成的基板表面损伤。该蒸镀方法系通过在磁铁(120)与由磁性材料构成的掩膜(1)之间插入玻璃基板(130)，使玻璃基板(130)与掩膜(1)相密接，并从蒸镀源(140)通过掩膜(1)的开口部(2)在基板(130)的表面进行有机EL元件材料的蒸镀，借此进行有机EL元件的图案形成处理。而在与掩膜(1)的玻璃基板(300)表面相对一侧的表面上进行表面粗糙化处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1448532A | 申请公布日期 | 2003.10.15 |
| 申请号 | CN03104971.0 | 申请日期 | 2003.02.28 |
| 申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 西川龙司 |
| 分类号 | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/01;H01L27/13 | 主分类号 | C23C14/04 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊 |
| 主权项 | 1.一种蒸镀方法，通过使蒸镀掩膜密接于基板表面，并从蒸镀源通过所述蒸镀掩膜的开口部将蒸镀材料蒸镀在所述基板的表面，而形成图案，其特征为：在所述蒸镀掩膜与所述基板表面相对向的表面上进行了表面粗糙化处理。 | ||
| 地址 | 日本岐阜县 | ||