在有机硅酸盐玻璃中腐蚀双波纹结构的方法

摘要

用于在晶片中形成双波纹腐蚀结构的方法，和根据该方法形成的半导体器件。本发明利用两步腐蚀工艺来形成有机硅酸盐电介质层中的双波纹结构。根据本发明的一个实施例，利用第一低选择性腐蚀剂来进行第一腐蚀步骤，第一低选择性腐蚀剂腐蚀完全通过沟道电介质(8)并几乎完全通过通孔电介质(12)，余下阻挡层上通孔电介质的小量残余，阻挡层保护由阻挡层(14)所保护的金属化物体。第一腐蚀步骤之后，利用第二高选择性腐蚀剂来执行第二腐蚀步骤。进行第二腐蚀步骤而对阻挡层几乎没有破坏。本发明的可选实施例考虑了“沟道在先”腐蚀策略。

主权项

1.一种用于在晶片中形成双波纹腐蚀结构的方法，该晶片包括一层有机硅酸盐玻璃电介质，该方法包括下述步骤：第一，利用第一低选择性腐蚀剂腐蚀通过大部分有机硅酸盐玻璃电介质，该第一腐蚀步骤余下有机硅酸盐玻璃电介质的残余部分；和第二，利用第二高选择性腐蚀剂腐蚀掉有机硅酸盐玻璃电介质的残余部分。