发明名称 补偿半高全宽误差之法布里│珀罗装置及其制造方法
摘要 本发明揭露一种补偿半高全宽误差之法布里-珀罗(Fabry-Perot)装置及其制造方法,此一法布里-珀罗装置具有一法布里-珀罗共振腔,供一光通过,其包含:一第一反射面,系用以部分反射该光而具有一第一反射率;及一第二反射面,配置成与该第一反射面平行相对,系用以部分反射该光而具有一第二反射率;其中该第一反射面与该第二反射面之间的一距离可依该第一反射率及该第二反射率来进行调变,俾补偿该第一反射率及该第二反射率对于通过该法布里-珀罗共振腔之该光所造成的一半高全宽(Full Width at Half Maximum;FWHM)误差。
申请公布号 TW557365 申请公布日期 2003.10.11
申请号 TW091123887 申请日期 2002.10.16
申请人 台达电子工业股份有限公司 发明人 张绍雄
分类号 G02B27/00 主分类号 G02B27/00
代理机构 代理人 周良吉 新竹市东大路一段一一八号十楼;洪兰心 新竹市东大路一段一一八号十楼
主权项 1.一种法布里-珀罗(Fabry-Perot)装置,具有一法布里-珀罗共振腔,供一光通过,该法布里-珀罗共振腔包含:一第一反射面,系用以部分反射该光而具有一第一反射率;及一第二反射面,配置成与该第一反射面平行相对,系用以部分反射该光而具有一第二反射率;其中该第一反射面与该第二反射面之间的一距离可依该第一反射率及该第二反射率来进行调变,俾补偿该第一反射率及该第二反射率对于通过该法布里-珀罗共振腔之该光所造成的一半高全宽(FullWidth at Half Maximum;FWHM)误差。2.如申请专利范围第1项之法布里-珀罗装置,其中该第一反射面系藉由微机电系统(Micro-Electro-Mechanical Systems;MEMS)制程技术所制作,该第一反射面上涂布有一第一光学薄膜,该第一反射率系由该第一光学薄膜所提供。3.如申请专利范围第2项之法布里-珀罗装置,其中该第一反射面具有一可微调间隙。4.如申请专利范围第1项之法布里-珀罗装置,其中该第二反射面系一渐变折射率透镜(graded-index Lens;CRIN Lens)之一表面,该表面上涂布有一第二光学薄膜,该第二反射率系由该第二光学薄膜所提供。5.如申请专利范围第1项之法布里-珀罗装置,其中该第二反射面系一玻璃基板之一表面,该表面上涂布有一第二光学薄膜,该第二反射率系由该第二光学薄膜所提供,该玻璃基板固定在一渐变折射率透镜上。6.如申请专利范围第1项之法布里-珀罗装置,更包含一接收元件(receiver),用以接收通过该法布里-珀罗共振腔之该光。7.如申请专利范围第6项之法布里-珀罗装置,其中该接收元件系一渐变折射率透镜。8.如申请专利范围第6项之法布里-珀罗装置,其中该接收元件系一光电转换之光二极体。9.如申请专利范围第1项之法布里-珀罗装置,更包含一反射元件(reflector),用以将通过该法布里-珀罗共振腔之该光反射回至该法布里-珀罗共振腔。10.如申请专利范围第9项之法布里-珀罗装置,其中该反射元件系一反射棱镜或一反射镜。11.一种补偿一半高全宽误差之法布里-珀罗装置的制造方法,包含下列步骤:以微机电系统制程技术制作一可动的微型反射镜,且涂布一第一光学薄膜以形成一第一反射面;在一渐变折射率透镜上涂布一第二光学薄膜以形成一第二反射面;在一平台上将该可动微型反射镜与该渐变折射率透镜对准,且将该第一反射面与该第二反射面配置成平行相对;及监测一光线穿透该布里-珀罗后之光谱,调整该第一反射面与该第二反射面之间的一距离,使该半高全宽误差符合公差。12.如申请专利范围第11项之补偿一半高全宽误差之法布里-珀罗装置的制造方法,在使该半高全宽误差符合公差后更包含一步骤,系以一焊料将该可动微型反射镜及该渐变折射率透镜固定。图式简单说明:图1系一示意图,显示一习知法布里-珀罗标准具;图2系一示意图,显示一光波之频谱特性,其中上横轴表示条纹序数、下横轴表示波长,又纵轴表示能量耗损(db)、左纵轴表示透射率(%);图3系利用半导体制程技术及微机电系统制程技术所制作之一习知法布里-珀罗共振腔的剖面示意图;图4A显示本发明一第一实施例之法布里-珀罗装置的剖面示意图;图4B显示本发明一第二实施例之法布里-珀罗装置的剖面示意图;图5A显示本发明一第三实施例之法布里-珀罗装置的剖面示意图;以及图5B显示本发明一第四实施例之法布里-珀罗装置的剖面示意图。
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