发明名称 反射防止薄膜及附有反射防止层之塑胶基板
摘要 本发明之目的在于提供一种无色反射防止薄膜及附有反射防止层之塑膜基板,其生产力优良且透明度高者。同时提供一种反射防止薄膜及附有反射防止层之塑胶基板,其系具备防湿性及遮气性且光学特性亦优良者。本发明之反射防止薄膜系在基体上形成硬涂膜层,在该硬涂膜上交互叠层透明高折射率之氧化物层与透明低折射率之氧化物层而成者。透明高折射率氧化物层系以依反应性溅镀法形成之Nb2O5层构成,而以有机材料为基体之反射防止薄膜之与基体的一面相接,形成有其折射率近似有机材料之无机防湿层。
申请公布号 TW557364 申请公布日期 2003.10.11
申请号 TW091107315 申请日期 2002.04.11
申请人 新力股份有限公司 发明人 小林富夫;渡边周二郎;渡边隆;香川正毅;石崎晴朗;李成吉
分类号 G02B1/11 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种反射防止薄膜,基体上形成有硬涂层,且在该硬涂层上交互叠层透明高折射率氧化物层与透明低折射率氧化物层,其特征为:至少一层透明高折射率氧化物层系以反应性溅镀法形成之Nb2O5层所构成者。2.如申请专利范围第1项之反射防止薄膜,其特征为在上述硬涂层上形成有选自ZrOx(x=1~2),TiOx(x=1~2),SiOx(x=1~2),SiOxNy(x=1~2,y=0.2~0.6)及CrOx(x=0.2~1.5)中之至少一种材料之氧化物层,且该氧化物层系依反应性溅镀法形成者。3.如申请专利范围第1项之反射防止薄膜,其特征为其他至少一层透明高折射率氧化物层系具有Nb2O5之膜及选自In2O3及SnO2中之任何一种以上具有金属氧化物之膜者。4.如申请专利范围第1项之反射防止薄膜,其特征为其他至少一层透明高折射率氧化物层系含选自In2O3及SnO2中之至少一种以上金属氧化物为主成分,且具有氧化物膜,该氧化物膜含有选自Si,Mg,Al,Zn,Ti及Nb中之至少一种元素之氧化物成分,其换算SiO2.MgO、Al2O3.ZnO、TiO2及Nb2O5为5mol%以上40mol%以下。5.如申请专利范围第4项之反射防止薄膜,其特征为上述氧化物膜含上述氧化物成分含量,换算为算SiO2.MgO、Al2O3.ZnO、TiO2及Nb2O5时为10mol%以上30mol%以下者。6.如申请专利范围第1项之反射防止薄膜,其特征为透明高折射率氧化物层中之Nb2O5层以外之层之至少一层系由选自Ta2O5.TiO2.ZrO2.ThO2.Si3N4.Y2O3中之任何层形成者。7.一种附有反射防止层之塑胶基板,其系在塑胶基板上或表面形成有硬涂层之塑胶基板上,形成有交互叠层透明高折射率氧化物层与透明低折射率氧化物层而成之反射防止层,其特征为至少一层透明高折射率氧化物层系以依反应性溅镀法形成之Nb2O5层构成者。8.一种反射防止薄膜,其系在有机材料所构成之基体上交互叠层透明高折射率氧化物层与透明低折射率氧化物层所形成之反射防止层而成,其特征为:与该基片之至少一面相接,形成有与上述有机材料之折射率接近之无机防湿层者。9.如申请专利范围第8项之反射防止薄膜,其特征为上述无机防湿层系形成于上述基体与反射防止层之间者。10.如申请专利范围第8项之反射防止薄膜,其特征为在上述基体上形成有硬涂层,其上又形成有上述反射防止薄膜者。11.如申请专利范围第8项之反射防止薄膜,其特征为该有机材料所构成之基体具有在有机材料基体所构成之薄膜表面以湿式涂被法形成表面改质层之构成者。12.如申请专利范围第8项之反射防止薄膜,其特征为该无机防湿层为以选自SiO2.SiOx、SiOxNy、Si3N4.SixNy、Al2O3.AlxOy、AlOxNy(x及y均为任意整数)中之任何一种为主成分者。13.如申请专利范围第8项之反射防止薄膜,其特征为该无机防湿层之折射率为1.4~2.1者。14.如申请专利范围第8项之反射防止薄膜,其特征为其反射防止层中之至少一层透明高折射率氧化物层系以反应性溅镀法形成之Nb2O5层所构成者。15.一种附有反射防止层塑胶基板,其系在塑胶基板上或表面形成有硬涂层之塑胶基板上形成有交互叠层透明高折射率氧化物层与透明低折射率氧化物层而成之反射防止层而成,其特征为之至少与塑胶基板之一侧的面相接,形成有与该塑胶基板之折射率接近之折射率之无机防湿层者。16.如申请专利范围第15项之附有反射防止层塑胶基板,其特征为上述反射防止层中之至少一层透明高折射率氧化物层系由依反应性溅镀法形成之Nb2O5层所构成者。图式简单说明:图1是显示适用本发明之反射防止薄膜叠层构成例之剖面图。图2是连续成形反射防止薄膜之各氧化物层之喷射装置模式图。图3是为评价反射防止薄膜之基体与黏附强度之附着强度试验装置模式图。图4是图3中之机头部形状平面图。图5是显示各种氧化物膜之光谱透射比特性图。图6是显示各种氧化物膜之光谱透射比特性图。图7是显示各种氧化物膜之光谱透射比特性图。图8是显示有机EL显示之一构成例之概略斜视图。图9是显示有机EL显示之一构成例之概略剖面图。图10是对上面发光型有机EL显示器黏贴AR薄膜之玻璃基板时之密封状态概略剖面图。图11是对上面发光型有机EL显示器黏贴附有无机防湿层AR薄膜时之密封状态概略剖面图。图12是显示附有无机防湿层AR薄膜构成例之概略剖面图。图13是使用有机基板之有机EL显示器制造步骤中之透明电极形成过程概略斜视图。图14是有机发光元件形成过程概略斜视图。图15是光反射材料电极层形成过程概略斜视图。图16是用密封膜密封之密封状态概略剖面图。图17是实施例1之光谱透射比特性与比较例之比较图。图18是实施例1之光谱透射比特性与比较例之比较图。图19是实施例3之光谱透射比特性与比较例之比较图。图20是实施例3之光谱透射比特性与比较例之比较图。图21是用于水分透过性评价之不锈钢制容器概略斜视图。图22是用AR薄膜密封不锈钢制容器之密封状态概略剖面图。图23是水分透过性评价结果特性图。图24是用离子二元蒸镀法成膜装置例模式图。
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