| 主权项 |
1.一种正型感光树脂组成物,其为于最大波长在500至620nm范围内之安全光辐射环境下使用之液体或固体状之正型感光树脂组成物,该安全光系得自一以钠作为主要成份之放电管(以589nm光波长之D射线为主体者);该组成物包含:(A)数目平均分子量为500至100000之具有羧基及/或羟基苯基之树脂,其由(a)含羧基可聚合不饱和单体所诱导之树脂,(b)含羟基苯基可聚合不饱和单体所诱导之树脂,及以(c)含羧基可聚合不饱和单体与含羟基苯基可聚合不饱和单体作为主成分之共聚物所组成之群组中选出,其中,1kg之树脂(A)含有0.5~10mols之羧基及/或1.0mol或更多之羟基苯基,(B)含有醚键之烯烃不饱和化合物,其由多酚化合物或多醇类与卤化烷基不饱和醚之缩合物,或,聚异氰酸酯化合物与羟基烷基不饱和醚之反应产物所组成之群组中选出,以及(C)藉由能量光线照射产生酸基之光酸产生剂,相对于100份重量之树脂(A),化合物(B)为5~150份重量,相对于100份重量之树脂(A)或化合物(B),光酸产生剂(C)为0.1~40份重量,其中,由此组成物所形成之一未曝光膜在由上述安全光之最大波长中选出之最大波长30nm内,吸收率为0.5或更低。2.如申请专利范围第1项之正型感光树脂组成物,其中,树脂与光酸产生剂为以化学方式结合者。3.如申请专利范围第1项之正型感光树脂组成物,其中,树脂(A)为共聚物(c)或树脂(a)及(b)之混合物。4.一种抗蚀剂图案之形成方法,其包括:(1)在基板上涂布如申请专利范围第1项之正型感光性树脂组成物,以于其上形成一感光膜之步骤;(2)使该形成于该基板上之感光膜直接或透过一罩幕膜于一雷射光束下曝光,以于该感光膜上得到所欲之抗蚀剂图案(影像)之步骤;以及(3)在感光膜上进行显影处理,以于该基板上形成抗蚀剂图案之步骤,其特征在于,在步骤(1)及/或(2)及/或(3)中,使用以含有钠作为主要成分之放电管(以589nm光波长之D射线为主体者)作为安全光;在波长范围为559至619nm内,该感光膜之未曝光部分之吸收率为0.5或更低。图式简单说明:图1为显示一可用于本发明中之包含钠作为一主要成分之安全光所用之放电管光谱分布图。图2显示附有一滤光器之钠放电管之光谱分布图。图3系一显示光谱发光效率之曲线图。图4系一显示实例1中所用未曝光膜之吸收率曲线图。图5显示一萤光灯管之光谱分布图。 |
