| 主权项 |
1.一种无铬式光罩的检测方法,适用于检测一无铬式光罩,其中该无铬式光罩至少具有一透光区与一相移区,该方法包括:提供一资料库,该资料库中储存有:一光罩资料库,对应于该无铬式光罩,其中该光罩资料库包括一框线图案,且该框线图案所围之面积与图形系对应于该无铬式光罩之该相移区的面积与图形;以及一第一检测讯号,该第一检测讯号系由该光罩资料库所产生;提供一检测器以检测该无铬式光罩,用以检测该无铬式光罩之一第二检测讯号,且该第二检测讯号之扫描位置系对应该第一检测讯号之扫描位置;以及比较该第一检测讯号与该第二检测讯号的异同,当该第一检测讯号与该第二检测讯号相同则表示该无铬式光罩无缺陷。2.如申请专利范围第1项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该透光区的材质包括石英。3.如申请专利范围第1项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该相移区的材质包括石英。4.如申请专利范围第1项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该相移区的厚度系大于该透光图案的厚度。5.如申请专利范围第1项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该无铬式光罩更包括一遮光区。6.一种无铬式光罩的检测方法,适用于检测一无铬式光罩,其中该无铬式光罩至少具有一透光区与一相移区,该方法包括:提供一资料库,该资料库中储存有:一第一光罩资料库,对应于该无铬式光罩,其中该第一光罩资料库包括一相移图案,且该相移图案之面积与图形系对应于该无铬式光罩之该相移区的面积与图形;一第二光罩资料库,其中该第二光罩资料库包括一框线图案,且该框线图案所围之面积与图形系等于该第一光罩资料库之该相移图案的面积与图形;以及一第一检测讯号,该第一检测讯号系由该第二光罩资料库所产生;提供一检测器以检测该无铬式光罩,用以检测该无铬式光罩之一第二检测讯号,且该第二检测讯号之扫描位置系对应该第一检测讯号之扫描位置;以及比较该第一检测讯号与该第二检测讯号的异同,当该第一检测讯号与该第二检测讯号相同则表示该无铬式光罩无缺陷。7.如申请专利范围第6项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该透光区的材质包括石英。8.如申请专利范围第6项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该相移区的材质包括石英。9.如申请专利范围第6项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该相移区的厚度系大于该透光区的厚度。10.如申请专利范围第6项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该无铬式光罩更包括一遮光图案。11.如申请专利范围第6项所述之无铬式光罩的检测方法,其中该第一光罩资料库系用以设计该无铬式光罩。12.如申请专利范围第6项所述之无铬式光罩的检测方法,其中形成该第二光罩资料库的方法更包括下列步骤:于该第一光罩资料库之该相移图案外周形成该框线图案,其中该框线图案系紧邻且环绕该相移图案,以及由该第一光罩资料库中去除该相移图案,并留下该框线图案,以形成该第二光罩资料库。图式简单说明:第1A图所绘示为一种同时具有遮光图案与无铬相移图案之无铬式光罩上视图,第1B图所绘示为第1A图之1B-1B剖面线的剖面图,第1C图所绘示为沿着1B-1B剖面线的实际检测信号示意图。第2A图所绘示为用以设计、制造第1A图之无铬式光罩的第一光罩资料库的示意图,第2B图所绘示为依据第2A图,经微影蚀刻制程所得的光罩剖面图,第2C图所绘示为经由第2A图所产生的检测讯号示意图。第3A图所绘示为用以设计、制造第1A图之无铬式光罩的第二光罩资料库的示意图,第3B图所绘示为依据第3A图所得的光罩剖面图,第3C图所绘示为经由第3A图所产生的检测讯号示意图。第4A图所绘示为本发明较佳实施例之一种光罩的上视图、第4B图所绘示为此光罩的剖面图以及第4C图所绘示为对此光罩进行检测所得的检测讯号图。第5图至第7图所绘示为本发明较佳实施例之建立与光罩200具有相同检测讯号之光罩资料库的示意图。第8图所绘示为第7图之光罩资料库所产生的检测讯号图。第9A图所绘示为本发明另一较佳实施例之一种光罩的上视图、第9B图所绘示为此光罩的剖面图以及第9C图所绘示为对此光罩进行检测所得的检测讯号图。第10图至第13图所绘示为本发明另一较佳实施例之建立与光罩500具有相同检测讯号之光罩资料库的示意图。第14图所绘示为第13图之光罩资料库所产生的检测讯号图。第15图所绘示为本发明较佳实施例之使用晶片对资料库检测法以进行无铬式光罩之检测的示意图。 |
