PHOTOACID GENERATORS, PHOTORESIST COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME AND PATTERNING METHOD WITH THE USE OF THE COMPOSITIONS,申请号KR20037000975-传众专利搜索

发明名称	PHOTOACID GENERATORS, PHOTORESIST COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME AND PATTERNING METHOD WITH THE USE OF THE COMPOSITIONS
摘要
申请公布号	KR20030079911(A)	申请公布日期	2003.10.10
申请号	KR20037000975	申请日期	2003.01.22
申请人		发明人
分类号	G03F7/004;C07C381/12;C07D333/46;C07D335/02;C08K5/36;C08L101/00;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
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