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发明名称
SOLVENT RESISTANT COPOLYMERS
摘要
<p>A radiation-sensitive composition for use in printing plates is described. The composition comprises: (a) at least one novolak; (b) at least one naphthoquinone diazide derivative; and (c) a copolymer comprising units A, B, and C:</p>
申请公布号
WO2003083577(P1)
申请公布日期
2003.10.09
申请号
EP2003003559
申请日期
2003.03.13
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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