发明名称 SOLVENT RESISTANT COPOLYMERS
摘要 <p>A radiation-sensitive composition for use in printing plates is described. The composition comprises: (a) at least one novolak; (b) at least one naphthoquinone diazide derivative; and (c) a copolymer comprising units A, B, and C:</p>
申请公布号 WO2003083577(P1) 申请公布日期 2003.10.09
申请号 EP2003003559 申请日期 2003.03.13
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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