| 发明名称 | 电光装置及其制造方法以及器件和电子仪器 | ||
| 摘要 | 一种电光装置，在衬底(2)上设置遮光层(3)；将形成在遮光层(3)上的滤色器层(13)隔开的分隔层(14)；密封这些遮光层(3)、分隔层(14)、滤色器层(13)的保护层(6)。分隔层(14)的至少一部分覆盖遮光层(3)，把保护层(6)和遮光层(3)分离为非接触状态。上述电光装置，缓和保护层的下陷，能够减少电极的断线，本发明还提供所述电光装置的制造方法、以及器件和电子仪器。 | ||
| 申请公布号 | CN1447179A | 申请公布日期 | 2003.10.08 |
| 申请号 | CN03108285.8 | 申请日期 | 2003.03.27 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 木口浩史;片上悟 |
| 分类号 | G02F1/361;G02B5/23;H05B33/10 | 主分类号 | G02F1/361 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种电光装置，在衬底上设置有：遮光层；将形成在该遮光层上的滤色器层隔开的分隔层；密封这些遮光层、分隔层以及滤色器层的保护层，其特征在于：所述分隔层的至少一部分覆盖所述遮光层，把所述保护层和所述遮光层分离为非接触状态。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||