发明名称 | 深水按摩浴足盆 | ||
摘要 | 一种涉及日常生活用品的由深盆体、永磁及按摩底组成的深水按摩浴足盆。该装置有盆体、盆沿及盆底互为一体组成,盆沿距盆底为22~25公分,盆体上部的盆沿与盆体下部的盆底呈交叉椭圆型,盆沿设有凹形倒水口和捏手,盆底上有人体脚形状的踏脚,踏脚部位分布有排列整齐有序的摩粒和永磁。本实用新型的优点:是一种既能洗泡双足,又能对人体足底进行自动按摩及理疗功能的保健浴足盆,使用方便,价廉物美。 | ||
申请公布号 | CN2577750Y | 申请公布日期 | 2003.10.08 |
申请号 | CN02261511.3 | 申请日期 | 2002.11.12 |
申请人 | 杨学树 | 发明人 | 杨学树 |
分类号 | A47K3/022;A61H39/04;A61N2/08 | 主分类号 | A47K3/022 |
代理机构 | 上海东亚专利代理有限公司 | 代理人 | 童素珠 |
主权项 | 1.一种深水按摩浴足盆,该装置有盆体、盆沿及盆底,其特征在于:盆体上部的盆沿与盆体下部的盆底呈交叉椭圆型,盆沿设有凹形倒水口和捏手,盆底上有人体脚形状的踏脚,踏脚部位分布有排列整齐有序的摩粒和永磁。 | ||
地址 | 200135上海市羽山路801弄13号502室 |