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发明名称 DEPOSITION OF SILICON DIOXIDE FILMS AT TEMPERATURES AS LOW AS 100 DEGREE C. BY LPCVD USING ORGANODISILANE SOURCES
摘要
申请公布号 US5204141(A) 申请公布日期 1993.04.20
申请号 US19910762101 申请日期 1991.09.18
申请人 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 发明人 ROBERTS, DAVID A.;HOCHBERG, ARTHUR K.
分类号 C23C16/42;C23C16/40;C23C16/46 主分类号 C23C16/42
代理机构 代理人
主权项
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