制造相位移动罩之方法

摘要

为了制造供超细图型形成用之相位移动罩，侧壁相位罩在空间频率调变式相位移动罩之每一相移薄膜之两侧形成。因此，在相位移动薄膜之末端部份发生之光强度即成为桥接型薄膜之形成因数者，乃由上述侧壁相移薄膜降低之。