Ionen-Implantierungsvorrichtung

摘要

Die Erfindung betrifft eine Ionen-Implantierungsvorrichtung mit einer Ionenquelle zum Erzeugen einer Vielzahl von aufgefächerten Ionenstrahlen (I) in einem vorbestimmten Bereich (B), wobei eine Sensor-Positioniervorrichtung (8) einen Ladungssensor (S) zum Erfassen einer elektrischen Aufladung an einem beliebigen Ort (x, y) innerhalb des vorbestimmten Bereichs (B) positioniert. Auf diese Weise erhält man ortsaufgelöste Messparameter für aufgefächerte Ionenstrahlen (I).