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发明名称 Verfahren zur Herstellung einer integrieten Schaltungsstruktur durch Entfernung einer Opferschicht
摘要
申请公布号 DE69817518(D1) 申请公布日期 2003.10.02
申请号 DE19986017518 申请日期 1998.04.30
申请人 STMICROELECTRONICS S.R.L., AGRATE BRIANZA 发明人 MONTANINI, PIETRO;FERRERA, MARCO;CASTOLDI, LAURA;GELMI, ILARIA
分类号 H01L21/306;B81B3/00;B81C1/00;G01C19/56;G01L9/00;G01P15/08;G01P15/097;G01P15/10;G01P15/125;H01L21/762;H01L21/764;H01L49/00;(IPC1-7):G01L9/00 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
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