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发明名称 Gerät zur Erzielung einer gleichmässigen Dosis beim Ionenimplantationsverfahren mit Plasma-Dotierung (PLAD)
摘要
申请公布号 DE69625855(T2) 申请公布日期 2003.10.02
申请号 DE19966025855T 申请日期 1996.06.04
申请人 VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES INC., GLOUCESTER 发明人 CHAPEK, DAVID LEROY;MALIK, SHAMIM MUHAMMAD;FELCH, SUSAN B.;SHENG, TIENYU TERRY;KISSICK, MICHAEL WILLIAM
分类号 H01J37/317;C23C14/48;H01J37/32;H01L21/22;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/32;H01J37/08;H01J37/04;C23C16/50 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
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