线上叠线结构,线中线结构,及直交对之多方向对位的方法

摘要

本发明系关于用以决定在微影程序中之偏差或重叠误差的量测方法。该量测方法包括一组绕射试验图形；使用分光椭圆计或反射测定计之光学检验技术；以及测试图形轮廓撷取之方法。本发明使用一组绕射光栅作为测试图形，以及薄膜量测仪器，例如分光椭圆计或分光反射测定计。对于在两接续层中的测试图形之轮廓作分析。在处理过轮廓资料后，便取得重叠资料。于本发明之第一实施样态中，揭露一线上线重叠光栅测试图形结构，其中第二层光罩系放置在第一层光罩中之亮线的中心。于本发明之第二实施样态中，揭露一线中线重叠光栅测试图形结构，其中第二层光罩系放置在第一层光罩中之暗线的中心。

主权项

1.一种线上叠线结构,包含:一第一光罩,具有多数之暗线及多数之亮线,每一暗线与亮线相邻放置;以及一第二光罩,具有多数之暗线及多数之亮线,在第二光罩之每一暗线系放置在第一光罩之一暗线的中心。2.如申请专利范围第1项之线上叠线结构,当使用正面光阻时,在第一光罩之暗线会比第一光罩之亮线宽。3.如申请专利范围第1项之线上叠线结构,当使用负面光阻时,在第一光罩之暗线会比第一光罩之亮线窄。4.如申请专利范围第1项之线上叠线结构,其中在第一光罩之多数亮线系彼此完全相同,或实质上完全相同,且其中在第一光罩之多数暗线系彼此完全相同,或实质上完全相同,第一光罩之亮线和暗线的结合因而产生在第一光罩上之重覆图形。5.如申请专利范围第1项之线上叠线结构,其中在第一光罩之多数暗线比在第二光罩之多数暗线宽。6.如申请专利范围第1项之线上叠线结构,其中在第一光罩之多数亮线比在第二光罩之多数亮线窄。7.如申请专利范围第1项之线上叠线结构,其中在第二光罩中多数暗线之第一暗线具有一左边缘和一右边缘,而其中在第一光罩中之多数暗线中的第一暗线具有一左边缘和一右边缘。8.如申请专利范围第7项之线上叠线结构,更包含:一距离d1,其会量测自第二光罩中第一条暗线之左边缘,至第一光罩中第一条暗线之左边缘彼此间的空隙;以及一距离d2,其会量测自第二光罩中第一条暗线之右边缘,至第一光罩中第一条暗线之右边缘彼此间的空隙。9.如申请专利范围第8项之线上叠线结构,其中如果d1=d2,则第二光罩之第一条暗线系在第一光罩之第一条暗线之中心。10.如申请专利范围第8项之线上叠线结构,其中如果d1减去d2产生正数,则第二光罩之第一条暗线会位移至第一光罩之第一条暗线的右边。11.如申请专利范围第8项之线上叠线结构,其中如果d1减去d2产生负数,则第二光罩之第一条暗线会位移至第一光罩之第一条暗线的左边。12.一种线中线结构,包含:一第一光罩,具有多数之暗线及多数之亮线,每一暗线系与亮线相邻放置;以及一第二光罩,具有多数之暗线及多数之亮线,在第二光罩之每一亮线系放置在第一光罩之一亮线的中心。13.如申请专利范围第12项之线中线结构,当使用正面光阻时,在第一光罩之多数亮线会比在第一光罩之多数暗线宽。14.如申请专利范围第12项之线中线结构,当使用负面光阻时,在第一光罩之多数亮线会比在第一光罩之多数亮线窄。15.如申请专利范围第12项之线中线结构,其中在第一光罩之多数亮线系彼此完全相同,或实质上完全相同,且其中在第一光罩之多数暗线系彼此完全相同,或实质上完全相同,第一光罩之亮线和暗线的结合因而产生在第一光罩上之重覆图形。16.如申请专利范围第12项之线中线结构,其中在第一光罩之多数暗线比在第二光罩之多数暗线窄。17.如申请专利范围第12项之线中线结构,其中在第一光罩之多数亮线比在第二光罩之多数亮线宽。18.如申请专利范围第12项之线中线结构,其中在第二光罩中多数亮线之第一亮线具有一左边缘和一右边缘,而其中在第一光罩中多数亮线之第一亮线具有一左边缘和一右边缘。19.如申请专利范围第18项之线中线结构,更包含:一距离X1,其会量测自第二光罩中第一条亮线之左边缘,至第一光罩中第一条亮线之左边缘彼此间的空隙;以及一距离X2,其会量测自第二光罩中第一条亮线之右边缘,至第一光罩中第一条亮线之右边缘彼此间的空隙。20.如申请专利范围第18项之线中线结构,其中如果X1=X2,则第二光罩之第一条亮线系在第一光罩之第一条亮线之中心。21.如申请专利范围第18项之线中线结构,其中如果X1减去X2产生正数,则第二光罩之第一条亮线会位移至第一光罩之第一条亮线的右边。22.如申请专利范围第18项之线中线结构,其中如果X1减去X2产生负数,则第二光罩之第一条亮线位移至第一光罩之第一条亮线的左边。23.一种直交对之多方向对位的方法,包含:放置一光栅;以及在光栅上照射光线,其中之光线不与光栅之方位垂直。24.如申请专利范围第23项之直交对之多方向对位的方法,其中光栅之方位形成正的斜率。25.如申请专利范围第23项之直交对之多方向对位的方法,其中光栅之方位形成负的斜率。图式简单说明:图1系说明依本发明之重叠图形化光栅线的四种方位之绘画图;图2A至2E系说明依本发明之线上线重叠图形化光栅之程序图;图3A至3D系显示各种不同之范例依本发明在线上线重叠图形化光栅中添加一或更多的层之程序图;图4A至4E系说明依本发明之线中线重叠图形化光栅之程序图;图5A至5D系显示各种不同之范例依本发明在线中线重叠图形化光栅中添加一或更多的层之程序图;图6系说明依本发明之第一种线中线结构范例之程序图;图7A至7B系说明依本发明使用椭圆计所作之图6线中线结构的重叠量测之曲线图;图8系说明依本发明之第二种线中线结构范例之程序图;图9A至9B系说明依本发明使用椭圆计所作之图8线中线结构的重叠量测之曲线图;图10系说明依本发明之第一种线上线结构范例之程序图;图11A至11B系说明依本发明使用椭圆计所作之图10线上线结构的重叠量测之曲线图;图12系说明依本发明之第二种线上线结构范例之程序图;以及图13A至13B系说明依本发明使用椭圆计所作之图12线上线结构的重叠量测之曲线图。