发明名称 磨光组成物
摘要 一种包含以下组份(a)至(g)的磨光组成物:(a)至少一个选自包含二氧化矽、氧化铝、氧化铈、氧化锆及氧化钛的磨蚀剂,(b)脂族羧酸,(c)至少一个选自包含铝盐、硷金属盐、硷土金属盐、有机胺化合物及四级胺盐的硷性化合物,(d)至少一个选自包含柠檬酸、草酸、酒石酸、甘胺酸、α-丙胺酸及组胺酸的加速磨光化合物,(e)至少一个选自包含苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑及甲苯基三唑的抗腐蚀剂,(f)过氧化氢,及(g)水。
申请公布号 TW555840 申请公布日期 2003.10.01
申请号 TW091100316 申请日期 2002.01.11
申请人 富士见股份有限公司 发明人 浅野宏;酒井谦儿;伊奈克芳
分类号 C09K3/14 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种磨光组成物,其特征为该组成物包含以下组份(a)至(g):(a)至少一个选自二氧化矽、氧化铝、氧化铈、氧化锆及氧化钛所组成群的磨蚀剂,且其含量以组成物计,在0.2至250g/L之范围,(b)脂族羧酸,其含量以组成物计,在0.00003至0.005mol/L之范围,(c)至少一个选自铝盐、硷金属盐、硷土金属盐、有机胺化合物及四级铵盐所组成群的硷性化合物,且其含量相对于该脂族羧酸计,在0.5至2当量比,(d)至少一个选自柠檬酸、草酸、酒石酸、甘胺酸、─丙胺酸及组胺酸所组成群的加速磨光化合物,且其含量以组成物计,在0.1至2mol/L之范围,(e)至少一个选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑及甲苯基三唑所组成群的抗腐蚀剂,且其含量以组成物计,在0.0001至0.004mol/L之范围,(f)过氧化氢,其含量以组成物计,在0.05至1.2mol/L之范围,及(g)水。2.如申请专利范围第1项之磨光组成物,其中,组份(b)系在具有至少10个碳原子之饱和烃或具有一个不饱和键之烃的骨架中具有一个羧基的脂族单羧酸。3.如申请专利范围第1项之磨光组成物,其中,组份(b)系至少一个选自月桂酸、亚油酸、肉豆蔻酸、棕榈酸、硬脂酸及油酸所组成群者。4.如申请专利范围第1项之磨光组成物,其中,组份(c)系至少一个选自氨、乙二胺、氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、氢氧化钾、氢氧化钠、啶、及乙醇胺所组成群者。5.如申请专利范围第1项之磨光组成物,其中,组份(e)系苯并三唑。
地址 日本