| 主权项 |
1.一种微机电式法布里-珀罗(MEMS Fabry-Perot)装置制造方法,其能精确定位二平行构件以符合一所需间距,该制造方法包含如下步骤:提供二基材;于该二基材表面之预定区域形成沉积物;利用一膜厚监控器控制该沉积物之厚度;及结合该沉积物间隔该二基材;其中该二基材间之该沉积物厚度与该所需间距相等。2.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,更包含以一区隔物定义该预定区域之步骤。3.如申请专利范围第2项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该区隔物为一光罩。4.如申请专利范围第2项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该区隔物为一光阻剂。5.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该基材系为其上镀有一层反射膜之矽晶圆。6.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该基材系为其上镀有一层反射膜之玻璃基板。7.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该膜厚监控器系为一石英震荡膜厚监控器(Quartz Crystal OscillatorFilm Thickness Monitor)。8.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该膜厚监控器系为一光学膜厚监控器(Optical Film ThicknessMonitor)。9.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition;PVD)沉积一介电材料于该预定区域上。10.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition;CVD)沉积一介电材料于该预定区域上。11.如申请专利范围第9或第10项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该介电材料系为TiO2。12.如申请专利范围第9或第10项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该介电材料系为SiO2。13.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采物理气相沉积法沉积一金属材料于该预定区域上。14.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采化学气相沉积法沉积一金属材料于该预定区域上。15.如申请专利范围第1项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该二基材系采胶黏之方式间隔该沉积物结合。16.一种微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其能精确定位二平行构件以符合一所需间距,该制造方法包含如下步骤:提供一第一基材;于该第一基材之复数个预定区域形成沉积物;利用一膜厚监控器控制各该沉积物之厚度使与该所需间距相等;及提供一第二基材间隔该沉积物与该第一基材接合。17.一种微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其能精确定位二平行构件以符合一所需间距,该制造方法包含如下步骤:于一第一基材之预定区域形成第一沉积物;于一第二基材对应该第一沉积物之配置形成第二沉积物;运用一膜厚监控器监控该第一及该第二沉积物之厚度;及连结该第一及第二沉积物以接合该第一及该第二基材;其中该第一与该第二沉积物之组合厚度与该所需间距相等。18.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,更包含以一光罩定义该预定区域之步骤。19.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,更包含以一光阻剂定义该预定区域之步骤。20.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采物理气相沉积法沉积一介电材料于该预定区域上。21.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采化学气相沉积法沉积一介电材料于该预定区域上。22.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采物理气相沉积法沉积一金属材料于该预定区域上。23.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,于其中系采化学气相沉积法沉积一金属材料于该预定区域上。24.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该基材系为其上镀有一层反射膜之矽晶圆。25.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该基材系为其上镀有一层反射膜之玻璃基板。26.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该膜厚监控器系为一石英震荡膜厚监控器。27.如申请专利范围第16或第17项之微机电式法布里-珀罗装置制造方法,其中该膜厚监控器系为一光学膜厚监控器。图式简单说明:图1为习知之法布里-珀罗装置示意图。图2为光线通过法布里-珀罗装置输出之周期性光谱图。图3A至图3D为习知微机电式法布里-珀罗装置制造方法之一例,显示其制作流程之剖面示意图。图4A至图4E为习知微机电式法布里-珀罗装置制造方法之另一例,显示其制作流程之剖面示意图。图5A至5C为依本发明之微机电式法布里-珀罗装置制造方法之一较佳实施例,显示其制作程序之剖面示意图。图6A为一俯视图,显示依本发明制造出之微机电式法布里-珀罗装置其间隔元件之配置。图6B为一俯视图,显示依本发明制造出之微机电式法布里-珀罗装置,其间隔元件之配置的一变化例。图7为运用一支撑物与光罩搭配之剖面示意图。图8为一剖面示意图,显示一光阻剂代替光罩作为进行薄膜沉积时之区隔物。图9A及图9B为依本发明之微机电式法布里-珀罗装置制造方法之另一较佳实施例,显示其制作程序之剖面示意图。 |
