| 主权项 |
1.一种真空吸附台板改良,该台板表面可供放置待加工物,该台板底部则设有真空室,可将放置在台板表面的加工物真空吸附固定住;其特征系在于:该台板表面上均匀密布设有多数个等高平齐的凸出部,每一个凸出部中心利用雷射加工设有直径0.5mm以下的透孔,作为抽取真空之用。2.如申请专利范围第1项所述之真空吸附台板改良,其中该凸出部系由棋盘式V形槽所区隔而成,并于棋盘式V形槽相交处设有直径0.5mm以下的透孔。3.如申请专利范围第1项所述之真空吸附台板改良,其中该凸出部系由同心圆圈状V形槽所区隔而成,并于同心圆圈状V形槽相交处设有直径0.5mm以下的透孔。4.一种真空吸附台板改良,该台板表面可供放置待加工物,该台板底部则设有真空室,可将放置在台板表面的加工物真空吸附固定住;其特征系在于:该台板表面系配合加工物的形状、大小设制一个或一个以上的凹槽,该凹槽底部的两侧设有可供涂布接着剂的结合槽,藉以将不锈钢片或铝片或钢片胶合固定于凹槽中,利用雷射加工在不锈钢片或铝片或钢片中央设有直径0.5mm以下的透孔,以及在凹槽中央设有直径比0.5mm稍大的透孔。5.如申请专利范围第4项所述之真空吸附台板改良,其中该凹槽与不锈钢片或铝片或钢片呈方形或是直线排列状。6.如申请专利范围第4项所述之真空吸附台板改良,其中该凹槽胶合固定由氧化铝或氧化锆及其它粉末治金制成的多孔性材质。7.如申请专利范围第6项所述之真空吸附台板改良,其中该凹槽与多孔性材质系依照加工物的形状、大小而设制。8.如申请专利范围第6项所述之真空吸附台板改良,其中该凹槽与多孔性材质系设制呈若干个同心方框状或是同心圆圈状。9.如申请专利范围第6项所述之真空吸附台板改良,其中该凹槽内部容纳设有座体组件,该座体组件设有可供胶合固定不锈钢片或铝片或钢片或是多孔性材质的容置槽,并于座体组件设有直径0.5mm以下的透孔,该座体组件底部的两侧延伸具有螺牙的结合柱,而凹槽底部的两侧则配合设有对应的结合孔,该座体组件的结合柱可以穿出结合孔,由螺帽锁设于螺牙中,使座体组件可供拆卸更换。图式简单说明:第一图:系第一种习式之立体组合示意图。第二图:系第一种习式之断面组合示意图。第三图:系第二种习式之立体组合示意图。第四图:系第二种习式之断面组合示意图。第五图:系第三种习式之立体组合示意图。第六图:系第三种习式之断面组合示意图。第七图:系第四种习式之立体组合示意图。第八图:系第四种习式之断面组合示意图。第九图:系第一种习式之使用状态示意图。第十图:系本创作第一种实施例之立体组合示意图。第十一图:系本创作第一种实施例之断面组合示意图。第十二图:系本创作第二种实施例之立体组合示意图。第十三图:系本创作第二种实施例之断面组合示意图。第十四图:系本创作第三种实施例之立体组合示意图。第十五图:系本创作第三种实施例之断面组合示意图。第十六图:系本创作第四种实施例之立体组合示意图。第十七图:系本创作第四种实施例之断面组合示意图。第十八图:系本创作第五种实施例之立体组合示意图。第十九图:系本创作第五种实施例之断面组合示意图。第二十图:系本创作第六种实施例之立体组合示意图。第二十一图:系本创作第六种实施例之断面组合示意图。第二十二图:系本创作第七种实施例之立体组合示意图。第二十三图:系本创作第八种实施例之立体组合示意图。第二十四图:系本创作第八种实施例之断面组合示意图。第二十五图:系本创作第九种实施例之立体组合示意图。第二十六图:系本创作第九种实施例之断面组合示意图。第二十七图:系本创作第九种实施例适用小规格晶圆之示意图。第二十八图:系本创作第九种实施例适用大规格晶圆之示意图。第二十九图:系本创作第十种实施例之立体组合示意图。第三十图:系本创作第十种实施例之断面组合示意图。 |
