发明名称 太阳光–紫外线安定的除生物剂组成物及其在水处理上之用途
摘要 揭露用于处理游憩与工业用水系统之一种太阳光-紫外线安定的除生物剂组成物,其包括一种氧化卤素化合物与一种安定剂,其中该安定剂为苯磺醯胺或其衍生物。
申请公布号 TW555531 申请公布日期 2003.10.01
申请号 TW088105843 申请日期 1999.05.18
申请人 尼可化学公司 发明人 杨舒浓;威廉F 麦柯
分类号 A01N11/00 主分类号 A01N11/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种太阳光-紫外线安定的除生物剂组成物,其包括一种氧化性卤素化合物与一种安定剂,其中该安定剂系选自于由苯磺醯胺与苯磺醯胺之衍生化合物所构成之群组中。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该氧化性卤素化合物系选自于由氧化性氯、溴与碘化物所构成之群组中。3.如申请专利范围第2项之组成物,其中该氧化性氯化物系选于自于由氯、次氯酸盐、次氯酸、氮化异氰尿酸盐与氯胺所构成之群组中。4.如申请专利范围第2项之组成物,其中该氧化性溴化物系选自于由溴、次溴酸盐、次溴酸、氯化溴、溴-氯-二甲基乙内醯、经安定化之次溴酸钠与溴胺所构成之群组中。5.如申请专利范围第2项之组成物,其中该氧化性碘化物系选自于由碘、次碘酸盐、次碘酸、碘载体与碘胺所构成之群组中。6.如申请专利范围第1项之组成物,其中该安定剂为苯磺醯胺。7.如申请专利范围第1项之组成物,其中该安定剂为4-硝基苯磺醯胺。8.如申请专利范围第1项之组成物,其中该安定剂对氧化性卤素化合物之莫耳比为0.1:50。9.如申请专利范围第1项之组成物,其中该安定剂对氧化性卤素化合物之莫耳比为1:10。10.如申请专利范围第1项之组成物,其中该安定剂对氧化性卤素化合物之莫耳比为1:1。11.一种抑制水系统中微生物生长之方法,其步骤包括将氧化性卤素化合物与安定剂以足以抑制之量而添加至水中,其中该安定剂系选自于由苯磺醯胺与苯磺醯胺之衍生化合物所构成之群组中。12.如申请专利范围第11项之方法,其中该氧化性卤素化合物系选自于由氧化性氯、溴与碘化物所构成之群组中。13.如申请专利范围第12项之方法,其中该氧化性氯化物系选自于由氯、次氯酸盐、次氯酸、氯化异氰尿酸盐与氯胺所构成之群组中。14.如申请专利范围第12项之方法,其中该氧化性溴化物系选自于由溴、次溴酸盐、次溴酸、氯化溴、溴-氯-二甲基乙内醯、经安定化之次溴酸钠与溴胺所构成之群组中。15.如申请专利范围第12项之方法,其中该氧化性碘化物系选自于由碘、次碘酸盐、次碘酸、碘载体与碘胺所构成之群组中。16.如申请专利范围第11项之方法,其中该安定剂为苯磺醯胺。17.如申请专利范围第11项之方法,其中该安定剂为4-硝基苯磺醯胺。18.如申请专利范围第11项之方法,其中该氧化卤素化合物以0.1ppm至20ppm之量添加至水中。19.如申请专利范围第11项之方法,其中该氧化卤素化合物以0.2ppm至5ppm之量添加至水中。20.如申请专利范围第11项之方法,其中该氧化卤素化合物以0.2ppm至1ppm之量添加至水中。21.如申请专利范围第11项之方法,其中该安定剂以0.1ppm至100ppm之量添加至水中。22.如申请专利范围第11项之方法,其中该安定剂以0.5ppm至50ppm之量添加至水中。23.如申请专利范围第11项之方法,其中该安定剂以1ppm至10ppm之量添加至水中。24.如申请专利范围第11项之方法,其中该水系统为游憩用水系统。25.如申请专利范围第11项之方法,其中该水系统为工业用水系统。26.如申请专利范围第11项之方法,其中该游憩用水系统为游泳池。27.如申请专利范围第11项之方法,其中该游憩用水系统为室外游泳池。
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