| 主权项 |
1.一种水平垂直仪器结构改良者,其主要特征在于:一基底座系呈环状其上顶制一上座,上座具容置空间,容置空间一侧形成一垂直面,上座之周面上具复数个孔洞,基底座上设有数个调整钮;二旋转座于轴心位置凸伸一枢杆,枢杆之中心位置具一线孔以供穿伸电线,二旋转座之圆周面上具一槽孔,一旋转座枢设于垂直面之孔洞,另一旋转座枢设上盖之孔洞;数指示器模组,其中三组固设于上座之孔洞系呈一特定角度之排列,另二组固设于旋转座之槽孔;一上盖适当位置具孔洞,一旋转座枢设于上盖之孔洞,于上盖横向与纵向位置各设一水平座,整体盖合于上座;二水平气泡组系容置于上盖之二水平座内;一电池组可提供整体结构所需之电能;藉此,数指示器模组即可射出横向、纵向、或具角度之雷射水平或垂直光束。2.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,可于容置空间适当位置处设一电池座,以容纳电池组。3.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,上座一端面形成一斜角度,其上枢设一旋转座,旋转座上固设一指示器模组,当操作时,指示器模组所射出之雷射光束即具一斜度。4.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,将旋转座之枢杆为一圆孔洞之设计,而再以一杆体穿伸于其内,杆体再固设于垂直面之孔洞上。5.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,系将基底座与上座分为二构件,上座另一端面形成一凹槽,当上座置于基底座上时,上座可于基底座上前后左右移动,当基底座调整水平后,上座略为前后左右移动均为水平状态。6.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,于上盖或上座之垂直面可具有刻度,如此旋转座于旋转时即可得知其旋转之相对角度为何。7.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,本创作可无基底座之设计,如此上座即可置于另一可调整水平之基底座上,如一水平座具有一置放空间可置放本创作之上座,水平座具有二轴承且呈九十度之排列,水平座即可因二轴承之作用而具自动朝整水平之功用。8.依据申请专利范围第1项所述之水平垂直仪器结构改良,其中,本创作之指示器模组可为一般常见之雷射指示器模组,如此于墙面上即可射出一雷射红点,当于指示器模组前端固设光罩后即于墙面上射出一雷射水平线。图式简单说明:第一图、系本创作立体分解图。第二图、系本创作立体组合图。第三图、系本创作调整示意图。第四图、系本创作操作示意图。第五图、系本创作另一操作示意图。第六图、系本创作另一操作示意图。第七图、系本创作之最佳实施例示意图。第八图、系本创作之第二实施例示意图。第九图、系本创作之第三实施例示意图。第十图、系本创作之第三实施例示意图。第十一图、系本创作之第四实施例示意图。第十二图、系本创作之第五实施例示意图。 |
