发明名称 烷基VA族金属化合物
摘要 本发明公开了通过三卤化VA族金属与有机锂试剂或式R<SUB>n</SUB>M<SUP>1</SUP>X<SUB>3-n</SUB>的化合物反应以高收率和高纯度制备二卤化单烷基VA族金属化合物的方法,其中R为烷基,M<SUP>1</SUP>为IIIA族金属,X为卤素且n为1至3的整数,这样的二卤化单烷基VA族金属化合物基本上不含含氧杂质,醚溶剂及金属杂质。通过将该二卤化单烷基VA族金属化合物还原可容易地以高收率和高纯度生产出二氢化单烷基VA族金属化合物。
申请公布号 CN1445233A 申请公布日期 2003.10.01
申请号 CN03128658.5 申请日期 2003.01.17
申请人 希普雷公司 发明人 D·V·谢奈-卡特哈特;M·B·鲍沃;A·阿曼希彦;R·L·小迪卡洛
分类号 C07F9/28;C07F9/70;C07F9/00;C23C16/06;H01L21/306 主分类号 C07F9/28
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 郭建新
主权项 1.一种制备二卤化单烷基VA族金属化合物的方法,其包括以下步骤:将三卤化VA族金属与一试剂反应,该试剂选自(C1-C10)烷基锂化合物和式RnM1X3-n的化合物,其中各R为(C1-C10)烷基,氨取代(C1-C10)烷基,芳基或取代芳基M1为IIIA族金属,X为卤素而n为1至3的整数,反应在无氧取代的有机溶剂中进行。
地址 美国马萨诸塞