发明名称 |
电浆处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种即使是反应性电浆,也可处理大面积基板或角形基板的电浆处理装置。本发明的电浆处理装置是具有矩形导波管1、由设置在导波管1的H面的开缝所构成的导波管天线2、由电介体所构成的电磁波放射窗4、以及夹在导波管天线2与电磁波放射窗4之间的电介体空间10,并且凭借从导波管天线2经由电磁波放射窗4所放射的电磁波产生电浆,在导波管1与电磁波放射窗4相对向的面设有凹凸部11。 |
申请公布号 |
CN1445827A |
申请公布日期 |
2003.10.01 |
申请号 |
CN03121657.9 |
申请日期 |
2003.03.13 |
申请人 |
株式会社液晶先端技术开发中心 |
发明人 |
后藤真志;中田行彦 |
分类号 |
H01L21/3065;H01L21/302;C23F4/00;H05H1/00 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 |
代理人 |
徐申民 |
主权项 |
1.一种电浆处理装置,是具有导波管、导波管天线、以及由电介体所构成的电磁波放射窗,并且凭借从前述导波管天线经由前述电磁波放射窗所放射的电磁波产生电浆,其特征在于,在前述导波管与前述电磁波放射窗相对向的面设有凹凸部。 |
地址 |
日本国神奈川县横滨市 |