发明名称 PROCEDE ET DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS DANS UNE COUCHE DE RESINE PHOTOSENSIBLE PAR INSOLATION LASER CONTINUE, APPLICATION A LA FABRICATION DE SOURCES D'ELECTRONS A CATHODES EMISSIVES A MICROPOINTES ET D'ECRANS PLATS
摘要 <P>Procédé et dispositif de formation de motifs dans une couche de résine photosensible par insolation laser continue, application à la fabrication de sources d'électrons à cathodes émissives à micropointes et d'écrans plats de visualisation.<BR/>Selon l'invention, on forme des faisceaux lumineux focalisés (41), on effectue au moins une translation relative, à vitesse et puissance lumineuse constantes, de ces faisceaux par rapport à la couche (22) pour insoler des lignes de cette couche, chaque ligne recevant une dose de lumière inférieure à celle qui est nécessaire au développement de la résine, on effectue une rotation relative de l'ensemble des faisceaux par rapport à la couche, on recommence la translation pour insoler d'autres lignes, chaque autre ligne recevant une dose de lumière complémentaire de la précédente et on développe la résine.</P>
申请公布号 FR2751785(A1) 申请公布日期 1998.01.30
申请号 FR19960009520 申请日期 1996.07.29
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 发明人 IDA MICHEL;RABAROT MARC
分类号 G03F7/20;H01J9/02;H01J31/12;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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