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经营范围
发明名称
Improved double chamber ion implantation system
摘要
申请公布号
GB0320262(D0)
申请公布日期
2003.10.01
申请号
GB20030020262
申请日期
2002.03.07
申请人
ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
发明人
分类号
H01J27/14;H01J37/08
主分类号
H01J27/14
代理机构
代理人
主权项
地址
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