发明名称 | 光刻装置和器件的制作方法 | ||
摘要 | 在使用镜的照明系统中,场小平面镜的小平面将多个源图像聚焦在光瞳小平面镜的对应小平面上来实现积分器的功能。提供一种小平面掩模装置来有选择地遮蔽光瞳小平面镜的小平面。该小平面掩模装置具有可选择插入投射束内来提供中间照明设定的栅格。该栅格具有的间距小于源图像但大于投射束的波长,以便使衍射不存在。 | ||
申请公布号 | CN1445613A | 申请公布日期 | 2003.10.01 |
申请号 | CN03128629.1 | 申请日期 | 2003.03.17 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·M·T·M·迪里希斯 |
分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
主权项 | 1.一种光刻投射装置,包括:一含有反射光学元件的辐射系统,用来提供投射辐射束,所述反射光学元件带有第一小平面镜,用来在第二小平面镜上产生多个源图像;一支承结构,用来支撑图案化装置,该图案化装置用以根据所需图案来对投射光束形成图案;一基片台,用来固定基片;一投射系统,用来将形成图案的光束投射在基片的目标部分上;其特征在于:小平面掩模装置用来有选择地掩蔽所述第一和第二小平面镜其中之一的一个或多个小平面,并包括有选择地插入在所述投射束内的至少一个局部不透明遮光叶片,所述局部不透明遮光叶片具有不透明区域和透明区域的规则周期排列,该不透明区域和透明区域具有充分大的间距以便所述投射束的衍射可以忽略不计,并且基本上覆盖整个小平面。 | ||
地址 | 荷兰维尔德霍芬 |