| 主权项 |
1.一种平面显示装置,包括:一对用于界定一气体放 电空 间之基板,其中该空间内密封有一用于产生放电发 光之气 体;以及用于吸收或反射近红外线之装置。2.依据 申请专利范围第1项所述之平面显示装置,其中该 吸收或反射装置系配置在该对基板中之一前基板 上。3.依据申请专利范围第2项所述之平面显示装 置,其中该 吸收或反射装置系一形成于该所基板上之淀积薄 膜。4.依据申请专利范围第2项所述之平面显示装 置,其中该 吸收或反射装置系添加至该前基板或该保护板材 料中之一 种由染料所组成之近红外线吸收剂。5.依据申请 专利范围第1项所述之平面显示装置,更包括 一安置在该对基板前方之保护板,且其中该吸收或 反射装 置系配置在该保护板上。6.依据申请专利范围第5 项所述之平面显示装置,其中该 吸收或反射装置系一形成于该前基板或该保护板 上之淀积 薄膜。7.依据申请专利范围第5项所述之平面显示 装置,其中该 吸收或反射装置系添加至该前基板或该保护板材 料中之一 种由染料所组成之近红外线吸收剂。8.依据申请 专利范围第5项所述之平面显示装置,其中所 安置之该保护板与该对基板有一预定距离。9.依 据申请专利范围第5项所述之平面显示装置,其中 该 保护板是由玻璃,或丙烯酸树脂,或塑胶所构成。10 .依据申请专利范围第5项所述之平面显示装置,其 中将 该保护板之四侧牢固装配至一框架元件中以固定 该保护板 。11.依据申请专利范围第5项所述之平面显示装置 ,其中该 保护板在面对观者之一侧为凸形轮廓。12.依据申 请专利范围第1项所述之平面显示装置,更包括 一安置在该对基板前方之保护板,且其中该吸收或 反射装 置系配置在该对基板之一前基板及该保护板上。 13.依据申请专利范围第12项所述之平面显示装置, 其中 该吸收或反射装置系一形成于该前基板或该保护 板上之淀 积薄膜。14.依据申请专利范围第12项所述之平面 显示装置,其中 该吸收或反射装置系添加至该所基板或该保护板 材料中之 一种由染料所组成之近红外线吸收剂。15.依据申 请专利范围第12项所述之平面显示装置,其中 所安置之该保护板与该对基板有一预定距离。16. 依据申请专利范围第15项所述之平面显示装置,其 中 该保护板是由玻璃,或丙烯酸树脂,或塑胶所构成 。17.依据申请专利范围第15项所述之平面显示装 置,其中 将该保护板之四侧牢固装配至一框架元件中以固 定该保护 板。18.依据申请专利范围第15项所述之平面显示 装置,其中 该保护板在面对观者之一侧为凸形轮廓。19.依据 申请专利范围第1项所述之平面显示装置,其中该 吸收或反射装置系一光学薄膜,它对于可见光波长 是一种 可穿透与抗反射之薄膜,而对于近红外线波长则是 一种反 射与吸收薄膜。20.依据申请专利范围第19项所述 之平面显示装置,其中 该光学薄膜是由叠合一高折射率薄膜及一低折射 率薄膜所 形成之一多层薄膜。21.依据申请专利范围第19项 所述之平面显示装置,其中 该光学薄膜对于可见光波长系一种抗反射薄摸,该 低折射 率薄膜是由MgF2或SiO2构成,而该高折射率薄膜则系 一出 ZrO2薄膜,或Ta2O5薄膜,或TiO2薄膜所构成之单层结构 ,或者是一出Pr6O11薄膜与TiO薄膜所构成之双层结构 。22.依据申请专利范围第1项所述之平面显示装置 ,其中该 吸收或反射装置系一红外线吸收薄膜。23.依据申 请专利范围第22项所述之平面显示装置,其中 试红外线吸收薄膜是由含有有机化合物染料之树 脂所构成 。24.依据申请专利范围第1项所述之平面显示装置 ,其中该 气体至少包含氙及氖,且该气体中氙之混合比率小 于2%。25.依据申请专利范围第1项所述之平面显示 装置,更包括 用于吸收或反射波长超过650nm之光线之装置。26. 依据申请专利范围第1项所述之平面显示装置,更 包括 一电磁波防护薄膜。27.依据申请专利范围第26项 所述之平面显示装置,其中 该电磁波防护薄膜系一透明之导电薄膜。28.依据 申请专利范围第1项所述之平面显示装置,更包括 位于该对基板间之显示电极,且该等显示电极覆盖 一层添 加有用于吸收近红外线之染料之电介质薄膜。29. 一种平面显示装置,包括:一对用于界定一气体放 电 空间之基板,其中该空间内密封有一用于产生放电 发光之 气体;以及其中该气体至少包含氙及氖,且该气体 中氙之 混合比率小于2%。30.依据申请专利范围第29项所述 之平面显示装置,其中 所设定之该氙气混合比率会使近红外线之频谱强 度小于可 见光波长之频谱强度之一半。31.依据申请专利范 围第29项所述之平面显示装置,更包 括用于吸收或反射波长超过650nm之光线之装置;以 及在 该气体放电空间内配置多个具有不同发光颜色之 萤光层。32.依据申请专利范围第29项所述之平面 显示装置,其中 波长小于650nm之光线透射比是波长为700nm之光线透 射比 之二倍或以上。33.一种平面显示装置,包括:一对 用于界定一气体放电 空间之基板,其中该空间内密封有一用于产生放电 发光之 气体;其中所设定之该混合气体之混合比率会使近 红外线 之频谱强度小于可见光波长之频谱强度之一半。 图式简单 说明:第一图系一截面图,显示一传统电浆显示器 之外形 ;第二图A至第二图C分别显示在一依据本发明实施 例之装 置中之氙气混合比率为0.2%以及3%时,波长在400nm至 1200nm范围之放射光谱;第三图A至第三图B分别显示 在一 依据本发明实施例之装置中之氙气混合比率为4% 以及5%时 ,400nm至1200nm范围之放射光谱;第四图显示在一依据 本发明实施例之装置中之氙气混合比率与波长约 为880nm 之放射光谱强度间之关系;第五图条一概要图,显 示一依 据本发明实施例之装置之构造;第六图系一透视图 ,显示 第一图所示装置之显示面板之内部构造;第七图条 一截面 图,显示一使用于依据本发明实施例之装置中之凸 形保护 板范例;第八图A及第八图B分别显示一使用于依据 本发明 实施例之装置中之具有一框架之保护板范例之正 视图及侧 视图;第九图显示一使用于依据本发明实施例之装 置中, 用于反射特定波长之光学滤光器范例之光学透射 比特性图 ;第十图显示一使用于依据本发明实施例之装置中 之可见 光抗反射薄膜之特性范例图;第十一图显示一使用 于依据 本发明实施例之装置中之红外线吸收滤光器之光 学透射比 特性之范例图;第十二图显示依据本发明实施例之 装置使 用光学波光器以及红外线吸收滤光器时之光学透 射比;第 十三图显示一使用于依据本发明实施例之装置中, 用于去 除一特定波长频宽内之光线之光学吸收滤光器或 反射滤光 器之光学特性图;第十四图显示一使用于依据本发 明实施 例之装置中,用于去除特定波长光线之光学吸收滤 光器或 反射滤光器之光学特性图;第十五图显示依据本发 明实施 例之装置中,用以减少波长约为700nm之光线透射比 之一 第一滤光器之特性图;第十六图显示依据本发明实 施例之 装置中,用以减少波长约为700nm之光线透射比之一 第二 滤光器之特性图;第十七图显示依据本发明实施例 之装置 中,用以减少波长约为700nm之光线透射比之一第三 渡光 器之特性图;第十八图显示依据本发明实施例之装 置中, 用以减少波长约为700nm之光线透射比之一第四波 光器之 特性图;第十九图A系一简图,显示一依据本发明实 施例 之装置构造;第十九图B显示第十九图A之装置所使 用之一 保护板或前透明基板之光学特性图。 |
